98%光利用率鍍介質(zhì)鏡純相位液晶空間光調(diào)制器

美國Meadowlark Optics公司專注液晶空間光調(diào)制器領(lǐng)域40多年，是液晶、偏振領(lǐng)域的科研儀器研發(fā)和制造公司?，F(xiàn)在HSP1K和E19×12系列空間光調(diào)制器的基礎(chǔ)上，推出鍍介質(zhì)鏡型的高效率、高刷新速度、高損傷閾值、低相位波動(dòng)的純相位液晶空間光調(diào)制器。已經(jīng)成為wan全滿足雙光子/三光子顯微成像、光鑷、自適應(yīng)光學(xué)、湍流模擬、光計(jì)算、光遺傳學(xué)和散射介質(zhì)成像等領(lǐng)域應(yīng)用需求的科研利器。

Meadowlark Optics公司推出了鍍介質(zhì)鏡型純相位液晶空間光調(diào)制器，光利用率率可達(dá)98%，波長可以覆蓋400-1700nm，1920x1200 & 1024x1024分辨率可選，損傷閾值可達(dá)200W/cm2以上，12bits控制精度，98%光利用率鍍介質(zhì)鏡純相位液晶空間光調(diào)制器性價(jià)比高！

特點(diǎn)1：填充率達(dá)到100%，光利用率92%-98%，200W/cm2高損傷閾值；

鍍介質(zhì)鏡型號的SLM填充了像素間的間隙，使液晶空間光調(diào)制器的面積填充率達(dá)到100%，從而降低衍射效應(yīng)和因像素間間隙引起的能量損失。標(biāo)準(zhǔn)型號采用鋁材料做底板反射材料，材料的吸收特性會(huì)導(dǎo)致能量損失，在800nm附近尤為明顯，這使得SLM的整體效率在該波段的整體效率只能到達(dá)70-80%。而鍍介質(zhì)鏡型的SLM克服了這一缺點(diǎn)，可以在工作波段范圍內(nèi)輕松實(shí)現(xiàn)92%以上的零級衍射效率，介質(zhì)鏡鍍膜中心波長處可達(dá)98%。同時(shí)，這樣的改變降低了SLM對激光能量的吸收引起的熱效應(yīng)，讓設(shè)備可以達(dá)到更高的損傷閾值，以滿足高功率脈沖激光調(diào)制和激光加工等應(yīng)用需求。

Meadowlark Optics公司產(chǎn)品型號命名規(guī)則：

中心波長1000nm（工作波段900-1100nm）的介質(zhì)鏡反射率曲線（參考）

特點(diǎn)2：液晶響應(yīng)速度 （<0.5ms），刷新速度高達(dá)2KHz，高相位穩(wěn)定性；

UHSDM1K系列1024×1024分辨SLM具有令人難以置信的液晶響應(yīng)時(shí)間，可以通過溫度調(diào)節(jié)和特殊的驅(qū)動(dòng)方式來降低液晶的粘稠度，提升液晶的響應(yīng)時(shí)間，可以＜0.5ms @532nm（0-2pi, 10-90%），液晶刷新速度高達(dá)2KHz。

或通過提升液晶的粘稠度以提升液晶空間光調(diào)制器的相位穩(wěn)定性，這樣會(huì)損失一部分刷新速度，但可以提供相位波動(dòng)低至0.05%的高穩(wěn)定性，以滿足光鑷和冷原子等應(yīng)用需求。

特點(diǎn)3：可自動(dòng)進(jìn)行任意波長線性校準(zhǔn)，真8位灰度調(diào)制，PCIE控制器；

該型號SLM的控制軟件進(jìn)行了升級，可以自動(dòng)進(jìn)行不同波長的波前畸變校準(zhǔn)及線性校準(zhǔn)，生成相應(yīng)的波前校準(zhǔn)文件（WFC）和線性校準(zhǔn)文件（LUT）。

Meadowlark Optic公司所有型號的SLM都滿足真8bit灰度調(diào)制（即8位灰度相位圖的每個(gè)灰階都對應(yīng)一個(gè)可檢測的，不重復(fù)的相位）。為滿足真8bit調(diào)制，設(shè)備控制器將驅(qū)動(dòng)電壓細(xì)分為更多的電壓級次（通常為12bit，即4096個(gè)細(xì)分電壓級次）。對于特定波長，選取其中256個(gè)電壓級生成特定波長下的0~2π映射的LUT，具有目前市面上可實(shí)現(xiàn)的Zui高線性度。

為滿足高刷新速度帶來的大吞吐量的數(shù)據(jù)傳輸需求（每張1024乘1024分辨率的8位灰度圖約為1MB），設(shè)備采用定制的PCIE控制器和數(shù)據(jù)線。同時(shí)PCIE控制器配備一塊可以存儲(chǔ)758張全畫幅圖片的板載內(nèi)存，可以允許客戶預(yù)加載圖片到控制器，實(shí)現(xiàn)高速刷新圖像切換，同時(shí)降低了對上位機(jī)帶寬的要求。

98%光利用率鍍介質(zhì)鏡 純相位液晶空間光調(diào)制器主要應(yīng)用領(lǐng)域：

雙光子/三光子顯微成像、光遺傳學(xué)、自適應(yīng)光學(xué)、湍流模擬、全息光鑷(HOT)、激光加工、超分辨顯微成像、散射或渾濁介質(zhì)中的成像、飛秒激光脈沖整形、光學(xué)加密、量子計(jì)算、光通信等。

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